據(jù)外媒報(bào)道，在三星電子采用全環(huán)繞柵極晶體管架構(gòu)的 3nm 制程工藝量產(chǎn)之后，臺(tái)積電仍采用鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管的 3nm 制程工藝，也在去年的 12 月 29 日正式開(kāi)始商業(yè)化生產(chǎn)。

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　　從外媒最新的報(bào)道來(lái)看，同臺(tái)積電此前的工藝一樣，去年 12 月份量產(chǎn)的 3nm 制程工藝，產(chǎn)能也在逐步提升，月產(chǎn)能在下月將達(dá)到 4.5 萬(wàn)片晶圓。

　　報(bào)道稱(chēng)，蘋(píng)果預(yù)訂臺(tái)積電 3nm 制程工藝量產(chǎn)初期的全部產(chǎn)能，提及臺(tái)積電這一工藝的月產(chǎn)能量時(shí)表示，將在下月達(dá)到 4.5 萬(wàn)片晶圓。

　　不過(guò)，即便臺(tái)積電 3nm 制程工藝的產(chǎn)能在不斷提升，他們這一制程工藝今年的產(chǎn)能依舊會(huì)緊張。

　　在上月的財(cái)報(bào)分析師電話(huà)會(huì)議上，臺(tái)積電 CEO 魏哲家就曾提到，他們客戶(hù)對(duì) 3nm 工藝的需求超過(guò)了他們供應(yīng)能力，他們預(yù)計(jì)這一制程工藝今年的產(chǎn)能將得到充分利用。

　　魏哲家在當(dāng)時(shí)的會(huì)議上，也提到了 3nm 制程工藝的營(yíng)收，他表示他們預(yù)計(jì)從今年三季度開(kāi)始，就將為他們帶來(lái)可觀(guān)的營(yíng)收，在全年收入中的比例預(yù)計(jì)為中等個(gè)位數(shù)，預(yù)計(jì)在今年的營(yíng)收，將高于 5nm 制程工藝量產(chǎn)的第一年，也就是 2020 年。
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